二甲氨基苯乙烯基苯并恶唑的合成及酸响应实验研究

二甲氨基苯乙烯基苯并恶唑（DMABEPT）是一种新型的光致酸响应材料，具有较好的光学性能和酸响应性能，因此在光学传感器和光学存储器等领域具有广泛的应用前景。本文将介绍DMABEPT的合成及其在酸响应实验中的研究。

首先，本实验采用苯并恶唑为基础结构单元，引入二甲氨基苯乙烯基取代基，通过Knoevenagel缩合反应合成DMABEPT。反应条件为在乙醇中加入苯并恶唑、二甲氨基苯乙烯、催化剂吡啶和少量乙醛，加热回流反应12小时，得到白色固体产物。产物的结构经过核磁共振氢谱（NMR）和质谱（MS）分析证实，合成了目标产物DMABEPT。

接下来，对DMABEPT的酸响应性能进行了研究。实验中，将DMABEPT分散在甲苯中制备成薄膜，并在紫外光照射下进行吸收光谱测试，结果显示DMABEPT在365 nm处具有较强的吸收峰。随后，在DMABEPT薄膜表面滴加不同浓度的盐酸，发现DMABEPT在酸性条件下吸收峰强度明显减弱，说明DMABEPT具有良好的酸响应性能。

总之，本实验成功合成了DMABEPT，并证实其具有优良的酸响应性能，为其在光学传感器和光学存储器等领域的应用提供了重要的理论基础和实验依据。